型號 :ZCL-700
一、真空室:
1. 形式:雙腔室結構,中間配置閘板閥。
A、濺射室:700(寬)x700(深)x600mm(高),后開門。配置3個 CF35法蘭,軸心指向工作臺,用于觀測,觀測路徑上不得有阻擋;另設置φ100mm觀測窗一個。
B、進料室:500(寬)x500(深)x600mm(高),前開門。配置射頻離子源(清洗)和傳送機構,支持Φ250mm×20mm(高),重量≥2kg樣品的送入。
C、閘板閥:500x400mm.送料機構傳送。
2. 室體材料304不銹耐酸鋼,內壁不銹鋼拋光,外壁噴丸處理。
3. 含2套腔體防污板 (304材料)。
4. 樣片在上,磁控靶在上
5. 冷卻管道采用304不銹鋼管。
6. 主機與電控柜連接之電纜,應裝入線槽,且從上方通過。
7. 所有供水管均采用塑料高壓氣管,進、出水塑料高壓氣管采用兩種不同顏色顯示。
8. 控電柜采用縱柜形式。
二、真空系統:
1.進料室:A.極限真空 ≤1.0x10-3pa,恢復真空: 大氣→9×10-1Pa ≤30min。
B.真空泵配置:250分子泵 + GSD120B干泵一臺
C.送樣系統 采用load-lock室送樣系統,支持Φ250mm×20mm(高),重量≥2kg樣品的送入。
2.濺射室:A.極限真空 ≤5.0x10-5pa,恢復真空: 大氣→1.0×10-4Pa ≤40min
B.升壓率:≤5.0pa@12hours
C.真空泵配置:GSD120B干泵一臺(低噪音)+ 400分子泵一臺
D.濺射真空室抽氣速率45min內真空度≤1×10-4Pa
E.濺射真空室升壓率 ≤5.0Pa@12hours
3. 真空系統測量:自動真空壓強控制儀;觀察窗口徑≥Φ80mm
4. 真空系統操作:自動/手動(PLC控制)
三、加熱控溫系統:
1.管狀加熱器加熱紅外輻射加熱,功率6Kw。
2.加熱控制溫度范圍:室溫~300℃,分辨率0.1℃,控溫精度:≤±2℃。
3.數字PID自動控溫系統,溫度可控可調(測量位置:被鍍基片附近);非接觸工件直接測溫,熱電偶控溫。
四、工作臺(基片臺)
1.正置工作臺1個,共聚焦濺射。工作臺旋轉,3-30rpm無級變速,速度連續可調。
工作模式
全自動濺射:調取預存設置參數,濺射全程無需干預,支持999層膜層參數設置。
半自動濺射:可單獨設置全部控制參數,并執行濺射程序,中途可以中斷并修改參數并重新濺射。
手動濺射:點動控制各硬件模塊,進行濺射。
2.工件旋轉:自轉,轉速5~30rpm;可放置φ250mm樣品一件。
3.濺射膜厚均勻區:不均勻性小于±5%@1μm,區域直徑≥200mm。
4. 濺射膜厚重復性:≥95%
5.加熱控溫系統采用電阻絲加熱;紅外輻射加熱,非接觸工件直接測溫,熱電偶控溫;加熱控制溫度范圍:室溫~300℃,分辨率0.1℃,控溫精度:≤±2℃。
6.工作臺高度可調,以滿足靶基距離調整要求。
五、磁控濺射靶及電源(直徑6英吋磁控靶,濺射靶數量3個,角度可調):
.直流濺射電源(3件):3KW(恒流控制);射頻電源2件,1.5Kw。
2.濺射方式:由上往下濺射;靶基間距80-300mm可調,調節量可控,分辨率≤±1mm。
3.濺射材料:A.金屬:Au、Pt、Ti、Cr、Ni、W、Fe、Cu、Ag、Al、NiCr、NiSi
B.非金屬:AlN、SiO2、Al2O3
4.每件靶上面有氣動擋板,擋板可旋轉。
5.濺射模式 直流濺射/射頻濺射
6.功率 直流濺射功率≥1000W;射頻濺射功率>600W。
7.有效區域 ≥Φ250mm
8.濺射膜厚均勻性 不均勻性小于±5%@1μm 區域直徑≥200mm。
9.濺射膜厚重復性 ≥95%
10.靶電極和冷卻水管須套在不銹鋼管內;
11.磁控濺射靶的冷卻水做到只要鍍膜開機抽真空,其冷卻水就暢通;
12.直流、射頻磁控電源能方便切換到需要工作的磁控濺射靶上,預濺射
正式濺射的時間能直觀地顯示在觸摸屏上。
六、壓力控制系統:
.自動壓強控制儀:控制范圍5×10-2Pa(0.1Pa)~10 Pa可調,穩定控制精度±0.1Pa
2.氣路控制3路工藝氣體進氣,1路N2,1路Ar,1路O2,質量流量計控制氣體流量。
3.充氣系統:配3只日本山武質量流量計。
4.氣路:全金屬管路,采用內壁拋光不銹鋼管。
七、清洗系統:
Load-lock室配置IBD-RISE-12-HO射頻離子源,可對樣品進行射頻清洗。
八、計算機全自動控制系統:
1.控制方式:17”一體式工控機電腦 + 工業控制PLC模塊。
2.性能:
1)可靠性:..的故障反饋及誤操作互鎖保護功能,具備各系統的自診斷功能:設備一旦出現故障,自動存儲故障記錄,發出聲光報警,等待操作人員檢查處理;
2)自動化:可以實現從排氣到濺射完成的一鍵控制,控制較為靈活。
3)用戶可自行編寫濺射程序,并由此濺射機自動實施。
3.濺射數據管理:
1)參數包括但不限以下:膜層的濺射氣壓、功率(電壓、電流)、時間、溫度、基片臺轉速等
2)真空度數據保存及曲線顯示;
4.工作模式:
1)全自動濺射:調取預存設置參數,濺射全程無需干預,支持999層膜層參數設置。
2)半自動濺射:可單獨設置全部控制參數,并執行濺射程序,中途可以中斷并修改參數并重新濺射。
3)手動濺射:點動控制各硬件模塊,進行濺射。
每層膜層的濺射氣壓曲線、功率(電壓、電流)曲線、時間、溫度曲線、基片臺轉速等參數并以數據表和圖片的形式導出,且界面美觀。
4.濺射過程自動化,自動控制的主要內容:
1)具備..的故障反饋及誤操作互鎖保護功能以及各系統自診斷功能;
2)真空系統抽、排氣可編程設置,由工控電腦自動控制完成;
3)工件盤轉動的高,低速旋轉可編程設置;
4)氣體管路閥門及進氣量可編程設置;由工控電腦自動控制壓控儀完成;
5)各個泵閥的控制由PLC來自動完成;
6)膜厚控制采用時間功率方式進行,可顯示濺射時間及功率;
5.控制特點:
1)人機界面為中文觸摸形式,可由觸摸屏或鍵盤和鼠標進行對話;
2)參數設置功能:時間、功率及相關參數;
3)可通過編程進行參數設置,也可在電腦屏幕上直接輸入;
4)具有..的數據信息自動存儲功能,記錄文件可方便的輸出;
5)記錄文件格式可轉換為Excell格式
6)整個工作過程自動儲存。
7)保護功能具備自鎖、互鎖安全保護措施
九、安裝要求:
1.環境溫度:10~35℃;
2.相對濕度:不大于80%;
3.設備周圍環境整潔,空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。
十一、設備動力要求:
1.水源: 自來水循環,水壓0.2~0.3Mpa,水量~60L/min,進水溫度≤20℃~25℃;
2.氣源:氣壓0.6Mpa;
3.電源:三相五線制220V/380V,50Hz,電壓波動范圍:三相342~399V,單相198~231V;頻率波動范圍:49~51Hz;設備功率:~20KW;接地電阻4Ω;
十一、設備總尺寸:<2.5m(長) x 1.5m(寬) x 2.0(高)