成都精密光刻機的主要用途和主要性能指標：

1、 主要用途：

（1） 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機；

（2） 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作；

（3） 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

2、 主要性能指標：

（1） 高均勻性蠅眼曝光頭。

a、 采用350W直流球形汞燈；

b、 出射光斑≤φ116mm；

c、 光強≤15mw；

d、 光的不均勻性≤±3%；

e、 光強度可通過光闌或汞燈電流調節，3～15mw任意調節；

f、 曝光時間采用0～999.9秒（日本OMRON生產）時間繼電器控制。

g、 對準精度：±0.5μm

h、 套刻精度：1μm

（2） 觀察系統為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續變倍顯微鏡；

b、 CCD攝像機靶面對角線尺寸為：1/3″,6mm；

c、 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為17×25.4/6=72倍；

d、 觀察系統放大倍數為：0.7×72=50.4倍（*小倍數）

4.5×72=324倍（*大倍數）；

e、右表板上有一視屏轉換開關：向左為下二個CCD，向右為上二個CCD。

（3）計算機硬軟件系統：

a、鼠標單擊“開始對準”，能將監視屏上的圖形記憶下來，并處理成透明的，以便對新進入的圖形進行對準；

b、鼠標雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。

（4）非常特殊的板架裝置：

a、該裝置能分別裝入100×100板架或125×125板架，對版進行真空吸附；

b、該裝置安裝在機座上，能圍繞A點作翻轉運動，相對于承片臺而言作上下翻轉運動，以便于上下版和上下片；

c、該裝置來回反復翻轉，回到承片臺上平面的位置，重復精度為≤±1.5μ；

d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能，**版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質量。

（5）承片臺調整裝置：

a、 配備有Φ75、Φ100承片臺各一個，這二種承片臺有二個長方孔，下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面；

b、 承片臺能作X、Y、Z、θ運動，X、Y、Z可作±5mm運動，θ運動為±5°；

c、 承片臺密著環相對于版，能實現“真空密著”：

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸；

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